특허청은 한국 주도로 디자인 선진 5개국(ID5)과 협력해 최근 완성한 '메타버스에서의 디지털 디자인 보호' 보고서를 공개했다고 21일 밝혔다.

이 보고서는 가상현실, 증강현실 등 신기술 발전에 따른 국가별 디자인 등록 가능성과 보호 현황을 가설적인 예시와 함께 비교·정리했다.

ID5는 디자인 분야 선진 5개국 협의체(한국·미국·일본·중국·유럽)로, 2016년 출범 이후 약 30여 개의 협력과제를 꾸준히 수행해 오고 있다. 협력 결과물들은 ID5 공식 홈페이지를 통해 전 세계에 공개하고 있다.

이번에 공개된 메타버스 보고서 외에 중국이 주도한 '디자인 도면 작성을 위한 사용자 가이드'도 함께 공개됐다. 각 국가별 도면양식의 공통점과 차이점, 부분디자인 작성 요령 등을 담아 해외 디자인 출원에 도움이 될 전망이다.

이춘무 특허청 상표디자인심사국장은 "앞으로 사용자에게 도움이 되는 ID5 협력과제를 추진하고, 그 결과를 적극 공개해 지식재산권 분야에서 국제적인 리더쉽을 확보해 나갈 계획"이라고 말했다.

디지털타임스 / 이준기 기자

원문 : https://www.dt.co.kr/contents.html?article_no=2025042102109902731001